Plasma gandeng induktif: Perbedaan antara revisi

Konten dihapus Konten ditambahkan
InternetArchiveBot (bicara | kontrib)
Add 1 book for Wikipedia:Pemastian (20210209)) #IABot (v2.0.8) (GreenC bot
InternetArchiveBot (bicara | kontrib)
Add 1 book for Wikipedia:Pemastian (20221209)) #IABot (v2.0.9.2) (GreenC bot
(Satu revisi perantara oleh satu pengguna lainnya tidak ditampilkan)
Baris 1:
[[Berkas:Inductively_Coupled_Plasma.jpg|jmpl|Gambar 1. Gambar obor ICP untuk analisis]]
'''Plasma gandeng induktif''' ({{lang-en|inductively coupled plasma, '''ICP'''}}) adalah jenis sumber [[plasma]] yang energinya didapat dari [[arus listrik]] yang dihasilkan oleh [[induksi elektromagnetik]], yaitu, dengan perubahan [[medan magnet]] waktu tertentu.<ref>{{Cite book|title = Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry|url = https://archive.org/details/inductivelycoupl0000unse|author = A. Montaser and D. W. Golightly, eds.|publisher = VCH Publishers, Inc., New York,|page = |year = 1992}}
</ref>
 
Baris 12:
== Aplikasi ==
[[Temperatur elektron]] plasma bervariasi antara ~6 000K dan ~10 000K (~6eV - ~100 eV),<ref name="ShunkoStevenson2014" /> sebanding dengan suhu pada permukaan matahari. Keluaran dari ICP relatif memiliki densitas elektron yang tinggi, di level 1015&nbsp;cm−3. Hasilnya, keluaran ICP memiliki rentang aplikasi yang luas bagi yang memerlukan plasma dengan kerapatan elektron tinggi.
* [[:en:InductivelySpektroskopi coupledemisi plasmaatom atomicplasma emissiongandeng spectroscopyinduktif|ICP-AES]], jenis [[spektroskopi emisi atom]].
* [[:en:Inductively coupled plasma mass spectrometry|ICP-MS]], jenis [[spektrometri massa]].
* [[:en:Reactive-ion etching|ICP-RIE]], jenis [[:en:Reactive-ion etching|reactive-ion etching]].