Plasma gandeng induktif: Perbedaan antara revisi
Konten dihapus Konten ditambahkan
k bentuk baku |
Fitur saranan suntingan: 3 pranala ditambahkan. |
||
| (3 revisi perantara oleh 2 pengguna tidak ditampilkan) | |||
Baris 1:
[[Berkas:Inductively_Coupled_Plasma.jpg|jmpl|Gambar 1. Gambar obor ICP untuk analisis]]
'''Plasma gandeng induktif''' ({{lang-en|inductively coupled plasma, '''ICP'''}}) adalah jenis sumber [[plasma]] yang energinya didapat dari [[arus listrik]] yang dihasilkan oleh [[induksi elektromagnetik]], yaitu, dengan perubahan [[medan magnet]] waktu tertentu.<ref>{{Cite book|title = Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry|url = https://archive.org/details/inductivelycoupl0000unse|author = A. Montaser and D. W. Golightly, eds.|publisher = VCH Publishers, Inc., New York,|page = |year = 1992}}
</ref>
== Pengoperasian ==
Terdapat tiga jenis geometri ICP: planar (Gambar 2 (a)), silinder<ref>{{Cite journal|title = Physics of Radio-Frequency Plasmas|url = https://archive.org/details/physicsradiofreq00chab|author = Pascal Chambert and Nicholas Braithwaite|publisher = Cambridge University Press, Cambridge|volume = |issue = |pages =
[[Berkas:ConventPlasmaInductors_W.tif|jmpl|Gambar 2. Induktor plasma konvensional]]
Pada geometri planar, elektrode berbentuk panjang dan terbuat dari logam pipih yang dilingkarkan seperti spiral (atau koil). Pada geometri silinder, tampak seperti pegas [[heliks]]. Pada geometri semi-toroidal, [[toroidal]] [[solenoid]] dipotong sesuai diameternya menjadi dua bagian yang sama panjang.
Ketika arus listrik melintasi koil sesuai fungsi waktu, akan menimbulkan medan magnet di sekelilingnya sesuai fungsi waktu pula, yang kemudian akan menginduksi [[medan listrik]] azimutal dalam gas umpan. Hal ini memicu formasi trayektori elektron seperti pada Gambar 8,<ref name="ShunkoStevenson2014" /> dan menghasilkan plasma (Lihat [[Persamaan Hamilton-Jacobi]] pada [[medan elektromagnetik]]). Argon adalah salah satu contoh yang banyak digunakan sebagai gas umpan.
== Aplikasi ==
[[Temperatur elektron]] plasma bervariasi antara ~6 000K dan ~10 000K (~6eV - ~100 eV),<ref name="ShunkoStevenson2014" /> sebanding dengan suhu pada permukaan matahari. Keluaran dari ICP relatif memiliki densitas elektron yang tinggi, di level 1015 cm−3. Hasilnya, keluaran ICP memiliki rentang aplikasi yang luas bagi yang memerlukan plasma dengan kerapatan elektron tinggi.
* [[
* [[:en:Inductively coupled plasma mass spectrometry|ICP-MS]], jenis [[spektrometri massa]].
* [[:en:Reactive-ion etching|ICP-RIE]], jenis [[:en:Reactive-ion etching|reactive-ion etching]].
* Mengeksitasi [[gas mulia]] ke kondisi metastabil.<ref>{{Cite journal|title = Characterization of a metastable neon beam extracted from a commercial RF ion source|author = Ben Ohayon, Erik Wahlin and Guy Ron|publisher = Journal of Instrumentation, Cambridge|volume = 10|issue = 03|pages = P03009|year = 2015|doi = 10.1088/1748-0221/10/03/P03009}}</ref>
Keuntungan lain dari keluaran ICP adalah kondisinya yang relatif bebas kontaminasi karena elektrodenya berada di luar bejana reaksi. Sebaliknya, ''[[capacitively coupled plasma]]'' (CCP), sering kali elektrodenya berada di dalam reaktor dan oleh karenanya terekspos plasma dan spesies bahan kimia yang mungkin reaktif.
| |||