Fotoresis: Perbedaan antara revisi
Konten dihapus Konten ditambahkan
Fitur saranan suntingan: 3 pranala ditambahkan. |
k Menambahkan Referensi |
||
Baris 1:
{{Unreferenced|date=November 2022}}
[[Berkas:Photoresist SEM micrograph.JPG|jmpl|250px|SEM image of a photoresist layer used in semiconductor manufacturing taken on a field electron emission SEM. These SEMs are important in the semiconductor industry for their high-resolution capabilities.]]
'''Fotoresis''' merupakan salah satu bahan yang dapat bereaksi jika terkena [[cahaya]]. [[Resistor foto|Fotoresistor]] adalah kombinasi dari kata
Bahan ini jika dikenai cahaya akan menjadi larut (''Positive Fotoresis'') atau justru akan menjadi tidak larut atau mengeras (''Negative Fotoresis''). Biasanya, Fotoresis sendiri digunakan dalam proses [[fotolitografi]] dan merupakan bagian dari proses di pembuatan [[microsystem]].
==Jenis Fotoresis==
Beberapa jenis fotoresis yang ada pada saat ini memiliki kepekaan terhadap beberapa sinar, terutama sinar [[ultraviolet]], [[laser]], pancaran [[elektron]], [[ion]], dan [[sinar-X]].<ref name=":0" />
Fotoresistor umumnya terbuat dari bahan semikonduktor yang digunakan sebagai elemen resistif tanpa sambungan PN. Ini pada dasarnya membuat fotoresistor perangkat pasif.
Baris 24:
* Detektor. Mereka juga dianggap sebagai detektor infra merah yang baik dan karenanya menemukan aplikasi dalam astronomi [[inframerah]].
== Referensi ==
<references />
[[Kategori:Polimer]]
| |||