'''{{SenyawaAnorganik|Hafnium(IV) oksida''' adalah senyawa [[anorganik]] dengan [[rumus kimia]] |[[Hafnium|Hf]][[Oksigen|O]]{{sub|2}}.}} Dikenal juga sebagai '''hafnia''', padatan tak berwarna ini adalah salah satu senyawa [[hafnium]] yang paling umum dan stabil. Ini adalah isolator listrik dengan [[celah pita]]<!--[[:en:Band gap]]--> antara 5,3 ~ 5,7 [[Elektron volt|eV]].<ref>{{cite journal |last=Bersch |first=Eric|title=Band offsets of ultrathin high-k oxide films with Si |url=http://journals.aps.org/prb/abstract/10.1103/PhysRevB.78.085114 |journal=Phys. Rev. B |volume=78 |pages=085114 |doi=10.1103/PhysRevB.78.085114|display-authors=etal}}</ref> Hafnium dioksida adalah zat antara dalam beberapa proses yang menghasilkan logam hafnium.
Hafnium(IV) oksida cukup inert. Ia bereaksi dengan [[asam]] kuat seperti [[asam sulfat]] pekat dan dengan [[basa]] kuat. Ia larut perlahan dalam [[asam fluorida]] membentuk anion fluorohafnat. Pada suhu tinggi, ia bereaksi dengan [[klorin]] dengan adanya [[grafit]] atau [[karbon tetraklorida]] untuk menghasilkan [[hafnium tetraklorida]].
