Fotoresis: Perbedaan antara revisi
Konten dihapus Konten ditambahkan
k →top: clean up |
Tidak ada ringkasan suntingan Tag: Suntingan perangkat seluler Suntingan peramban seluler |
||
Baris 1:
{{Unreferenced|date=November 2022}}
[[Berkas:Photoresist SEM micrograph.JPG|jmpl|250px|SEM image of a photoresist layer used in semiconductor manufacturing taken on a field electron emission SEM. These SEMs are important in the semiconductor industry for their high-resolution capabilities.]]
'''Fotoresis''' merupakan salah satu bahan yang dapat bereaksi jika terkena cahaya.
Bahan ini jika dikenai cahaya akan menjadi larut (''Positive Fotoresis'') atau justru akan menjadi tidak larut atau mengeras (''Negative Fotoresis''). Biasanya, Fotoresis sendiri digunakan dalam proses [[fotolitografi]] dan merupakan bagian dari proses di pembuatan [[microsystem]].
'''Jenis Fotoresis'''
Beberapa jenis fotoresis yang ada pada saat ini memiliki kepekaan terhadap beberapa sinar, terutama sinar [[ultraviolet]], [[laser]], pancaran [[elektron]], [[ion]], dan [[sinar-X]].
Fotoresistor umumnya terbuat dari bahan semikonduktor yang digunakan sebagai elemen resistif tanpa sambungan PN. Ini pada dasarnya membuat fotoresistor perangkat pasif.
Dua jenis fotoresistor adalah:
* '''Fotoresistor Intrinsik''': Seperti yang kita tahu, intrinsik sering disebut sebagai semikonduktor (dalam hal ini bahan fotokonduktif) yang tidak memiliki doping. Ini berarti bahwa bahan fotokonduktif, yang digunakan untuk membangun fotoresistor ini melibatkan eksitasi pembawa muatan dari pita valensi ke pita konduksi.
* '''Fotoresistor ekstrinsik''': Fotoresistor ekstrinsik memiliki bahan semikonduktor dengan pengotor atau kita dapat mengatakan mereka didoping, untuk efisiensi yang lebih baik. Dopant pengotor harus dangkal dan tidak terionisasi di hadapan cahaya. Bahan fotokonduktif yang digunakan untuk fotoresistor ini melibatkan eksitasi pembawa muatan antara pengotor dan pita valensi atau pita konduksi.
[[Kategori:Polimer]]
| |||