Fotoresis: Perbedaan antara revisi
Konten dihapus Konten ditambahkan
Tidak ada ringkasan suntingan |
Tidak ada ringkasan suntingan |
||
Baris 2:
Photoresist digunakan dalam proses [[photolithography]] dan merupakan bagian dari proses di pembuatan [[microsystem]].
Beberapa jenis photoresist yang ada pada saat ini peka terhadap sinar ultraviolet, laser, pancaran elektron, ion, dan sinar-X.
{{stub}}
| |||