|
[[Berkas:Inductively_Coupled_Plasma.jpg|jmpl|Gambar 1. Gambar obor ICP untuk analisis]]
'''Plasma gandeng induktif''' ({{lang-en|inductively coupled plasma, '''ICP'''}}) adalah jenis sumber [[plasma]] yang energinya didapat dari [[arus listrik]] yang dihasilkan oleh [[induksi elektromagnetik]], yaitu, dengan perubahan [[medan magnet]] waktu tertentu.<ref>{{Templat:Cite book|title = Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry|author = A. Montaser and D. W. Golightly, eds.|publisher = VCH Publishers, Inc., New York,|page = |year = 1992}}
</ref>
== Pengoperasian ==
Terdapat tiga jenis geometri ICP: planar (Gambar 2 (a)), silinder<ref>{{Templat:Cite journal|title = Physics of Radio-Frequency Plasmas|author = Pascal Chambert and Nicholas Braithwaite|publisher = Cambridge University Press, Cambridge|volume = |issue = |pages = 219–259|year = 2011|ISBN = 978-0521-76300-4}}</ref> (Gambar 2 (b)), dan spiral yang dilengkungkan setengah lingkaran (semi-toroidal, Gambar 2 (c)).<ref name="ShunkoStevenson2014">{{Templat:Cite journal|last1 = Shun'ko|first1 = Evgeny V.|last2 = Stevenson|first2 = David E.|last3 = Belkin|first3 = Veniamin S.|title = Inductively Coupling Plasma Reactor With Plasma Electron Energy Controllable in the Range From ~6 to ~100 eV|journal = IEEE Transactions on Plasma Science|volume = 42|issue = 3|year = 2014|pages = 774–785|issn = 0093-3813|doi = 10.1109/TPS.2014.2299954}}</ref>
[[Berkas:ConventPlasmaInductors_W.tif|jmpl|Gambar 2. Induktor plasma konvensional]]
Pada geometri planar, elektrode berbentuk panjang dan terbuat dari logam pipih yang dilingkarkan seperti spiral (atau koil). Pada geometri silinder, tampak seperti pegas [[heliks]]. Pada geometri semi-toroidal, [[toroidal]] [[solenoid]] dipotong sesuai diameternya menjadi dua bagian yang sama panjang.
== Aplikasi ==
[[Temperatur elektron]] plasma bervariasi antara ~6 000K dan ~10 000K (~6eV - ~100 eV),<ref name="ShunkoStevenson2014" /> sebanding dengan suhu pada permukaan matahari. Keluaran dari ICP relatif memiliki densitas elektron yang tinggi, di level 1015 cm−3. Hasilnya, keluaran ICP memiliki rentang aplikasi yang luas bagi yang memerlukan plasma dengan kerapatan elektron tinggi.
* [[:en:Inductively_coupled_plasma_atomic_emission_spectroscopyInductively coupled plasma atomic emission spectroscopy|ICP-AES]], jenis [[spektroskopi emisi atom]].
* [[:en:Inductively_coupled_plasma_mass_spectrometryInductively coupled plasma mass spectrometry|ICP-MS]], jenis [[spektrometri massa]].
* [[:en:Reactive-ion_etchingion etching|ICP-RIE]], jenis [[:en:Reactive-ion_etchingion etching|reactive-ion etching]].
* Mengeksitasi gas mulia ke kondisi metastabil.<ref>{{Templat:Cite journal|title = Characterization of a metastable neon beam extracted from a commercial RF ion source|author = Ben Ohayon, Erik Wahlin and Guy Ron|publisher = Journal of Instrumentation, Cambridge|volume = 10|issue = 03|pages = P03009|year = 2015|doi = 10.1088/1748-0221/10/03/P03009}}</ref>
Keuntungan lain dari keluaran ICP adalah kondisinya yang relatif bebas kontaminasi karena elektrodenya berada di luar bejana reaksi. Sebaliknya, ''[[Capacitively coupled plasma|''capacitively coupled plasma]]'']] (CCP), seringkalisering kali elektrodenya berada di dalam reaktor dan oleh karenanya terekspos plasma dan spesies bahan kimia yang mungkin reaktif.
== Lihat juga ==
* [[:en:Pulsed_inductive_thrusterPulsed inductive thruster|Pulsed inductive thruster]]
* [[:en:Induction_plasma_technologyInduction plasma technology|Induction plasma technology]]
* [[Daftar artikel plasma (fisika)]]
* [[:en:Capacitively_coupled_plasmaCapacitively coupled plasma|Capacitively coupled plasma]]
== Referensi ==
| 