Kontak Ohmik: Perbedaan antara revisi

Konten dihapus Konten ditambahkan
Giri Ginanjar (bicara | kontrib)
Tidak ada ringkasan suntingan
Giri Ginanjar (bicara | kontrib)
Tidak ada ringkasan suntingan
Baris 5:
 
[[Image:Ohmic3.png|thumb|right|Kontak ohmic atau hambatan Schottky dibentuk ketika sebuah logam dan semikonduktor tipe-p bersentuhan.]]
 
==Persiapan dan karakterisasi kontak ohmic==
 
The fabrication of ohmic contacts is a much-studied part of materials engineering that nonetheless remains something of an art. The reproducible, reliable fabrication of contacts relies on extreme cleanliness of the semiconductor surface. Since a '''native oxide''' rapidly forms on the surface of [[silicon]], for example, the performance of a contact can depend sensitively on the details of preparation.
 
Pembuatan kontak ohmic telah banyak dipelajari sebagai bagian dari rekayasa material yang yang merupakan suatu seni. '''oksida''' secara cepat akan terbentuk pada permukaan [[Silikon]], misalnya, kinerja kontak dapat bergantung sensitif pada rincian persiapan.