Revisi per 5 Juli 2023 10.05 sunting AABot (bicara \| kontrib) Bot, Pengecualian blokir IP 914.349 suntingan k PL Tag: paws [2.2] ← Revisi sebelumnya		Revisi per 14 Maret 2024 12.22 sunting balikkan Hartanto Wibowo (bicara \| kontrib) 2.662 suntingan Tidak ada ringkasan suntingan Revisi selanjutnya →
Baris 5: Pada tahun 2017 [[AMD]] merilis prosesor "Roma" (EPYC 2) untuk aplikasi server dan pusat data, yang didasarkan pada proses N7 TSMC <ref name="anandtech">{{cite news \|last1=Smith \|first1=Ryan \|title=AMD "Rome" EPYC CPUs to Be Fabbed By TSMC \|url=https://www.anandtech.com/show/13122/amd-rome-epyc-cpus-to-be-fabbed-by-tsmc \|access-date=18 June 2019 \|work=[[AnandTech]] \|date=July 26, 2018}}</ref> dengan fitur 64 inti dan 128 utas. Mereka juga merilis prosesor desktop konsumen "Matisse" dengan fitur 16 inti dan 32 utas. Namun, cetakan I/O pada modul multi-chip Roma (MCM) dibuat dengan proses 14 nm (14HP) oleh [[GlobalFoundries]], sementara cetakan I/O Matisse menggunakan proses 12 nm (12LP+) GlobalFoundries. Seri Radeon RX 5000 juga didasarkan pada proses N7 TSMC. == Lihat pula == * [[International Technology Roadmap for Semiconductors]] * [[Fabrikasi semikonduktor]] * [[Fotolitografi]] * [[Litografi ultraviolet ekstrim]] * [[Litografi rendam]] * [[ASML Holding]] pemasok sistem [[fotolitografi]] terbesar, terutama untuk industri [[semikonduktor]]. * [[Semiconductor Equipment and Materials International\|SEMI]] — The semiconductor industry trade association * [[Electronic design automation]] * [[Fab (semiconductors)\|Fab]] * [[Foundry]] * [[GDS-II]] * [[OASIS (standard)\|OASIS]] * [[Taiwan Semiconductor Manufacturing Company]] TSMC * [[Applied Materials]] * [[KLA Corporation]] * [[Lam Research]] * [[Tokyo Electron]] * [[GlobalFoundries]] * [[United Microelectronics Corporation]] * [[Semiconductor Manufacturing International Corporation]] * [[Shanghai Micro Electronics Equipment]] * [[Sirkuit terpadu]] * [[Mikroprosesor]] * [[Unit Pemroses Sentral]] * [[MOSFET]] * [[Transistor]] * [[Semikonduktor]] * [[Nanometer]] ==Referensi== {{Reflist}} ==Prana ~~Pranala luar~~ Luar== * [https://en.wikichip.org/wiki/7_nm_lithography_process 7 nm lithography process] Baris 18 ⟶ 48: }} [[Kategori:Node litografi International Technology Roadmap for Semiconductors]] ~~{{Uncategorized\|date=Maret 2023}}~~ [[Kategori:Sirkuit terpadu penggunaan khusus]] [[Kategori:Penemuan Jepang]] [[Kategori:Litografi (fabrikasi mikro)]] [[Kategori:MOSFET]] [[Kategori:Fabrikasi alat semikonduktor]] [[Kategori:Teknologi cleanroom]] [[Kategori:Mikroteknologi]] [[Kategori:Manufaktur elektronik]]

Proses 7 nm: Perbedaan antara revisi