Fotoresis
Artikel ini membutuhkan judul dalam bahasa Indonesia yang sepadan dengan judul aslinya. |
Photoresist adalah bahan yang bereaksi jika terkena cahaya. Bahan ini jika dikenai cahaya akan larut (photoresis positif) atau akan menjadi tidak larut atau mengeras (photoresist negatif). Photoresist digunakan dalam proses photolithography dan merupakan bagian dari proses di pembuatan microsystem.
Beberapa jenis photoresist yang ada pada saat ini peka terhadap sinar ultraviolet, laser, pancaran elektron, ion, dan sinar-X.
 | Artikel bertopik umum ini adalah sebuah rintisan. Anda dapat membantu Wikipedia dengan mengembangkannya. Jika Anda melihat halaman yang menggunakan templat {{stub}} ini, mohon gantikan dengan templat rintisan yang lebih spesifik. |