Ukuran asli(Berkas SVG, secara nominal 512 × 2.176 piksel, besar berkas: 7 KB)
Berkas ini berasal dari Wikimedia Commons dan mungkin digunakan oleh proyek-proyek lain.
Deskripsi dari halaman deskripsinya ditunjukkan di bawah ini.
Ringkasan
DeskripsiCMOS fabrication process.svg
English: Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram can be scale.
untuk berbagi – untuk menyalin, mendistribusikan dan memindahkan karya ini
untuk menggubah – untuk mengadaptasi karya ini
Berdasarkan ketentuan berikut:
atribusi – Anda harus mencantumkan atribusi yang sesuai, memberikan pranala ke lisensi, dan memberi tahu bila ada perubahan. Anda dapat melakukannya melalui cara yang Anda inginkan, namun tidak menyatakan bahwa pemberi lisensi mendukung Anda atau penggunaan Anda.
berbagi serupa – Apabila Anda menggubah, mengubah, atau membuat turunan dari materi ini, Anda harus menyebarluaskan kontribusi Anda di bawah lisensi yang sama atau kompatibel dengan lisensi pada materi asli.
Diizinkan untuk menyalin, mendistribusikan dan/atau memodifikasi dokumen ini di bawah syarat-syarat Lisensi Dokumentasi Bebas GNU, Versi 1.2 atau lebih baru yang diterbitkan oleh Free Software Foundation; tanpa Bagian Invarian, tanpa Teks Sampul Depan, dan tanpa Teks Sampul Belakang. Salinan lisensi dimasukkan ke bagian yang berjudul Lisensi Dokumentasi Bebas GNU.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue
Anda dapat memilih lisensi pilihan Anda.
Captions
Add a one-line explanation of what this file represents
{{Information |Description ={{en|1=Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram is
Berkas ini mengandung informasi tambahan yang mungkin ditambahkan oleh kamera digital atau pemindai yang digunakan untuk membuat atau mendigitalisasi berkas. Jika berkas ini telah mengalami modifikasi, rincian yang ada mungkin tidak secara penuh merefleksikan informasi dari gambar yang sudah dimodifikasi ini.
Judul singkat
Simplified process of fabrication of a CMOS inverter
Judul gambar
Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication, drawn by CMG Lee. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram is not to scale.