Wikipedia

Berkas:Wet etching tanks at LAAS 0465.jpg

Ukuran asli ‎(3.872 × 2.592 piksel, ukuran berkas: 3,48 MB, tipe MIME: image/jpeg)

Berkas ini berasal dari Wikimedia Commons dan mungkin digunakan oleh proyek-proyek lain. Deskripsi dari halaman deskripsinya ditunjukkan di bawah ini.

Ringkasan

Deskripsi
English: etching tanks used to perform Piranha, Hydrofluoric acid or RCA clean on 4-inch wafer batches at LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.
Français : Bacs de gravure chimique utilisés pour des nettoyages RCA, à l'acide fluorhydrique ou au mélange piranha sur des lots de wafers de 4 pouces à la centrale de technologie du LAAS-CNRS à Toulouse, France.
Tanggal
Sumber Karya sendiri
Pembuat Guillaume Paumier (user:guillom)
Izin
(Menggunakan kembali berkas ini)		 Own work, attribution, share-alike: Multi-license with GFDL and Creative Commons CC-BY-SA-3.0
Lokasi kamera43° 33′ 47,16″ U, 1° 28′ 39,36″ T Kartographer map based on OpenStreetMap.Lihat gambar ini dan gambar di sekitarnya di: OpenStreetMapinfo

Credit information:

  • This work was created by me (Guillaume Paumier). You are free to use it for any purpose as long as you credit me properly.
  • Credit line on the web (with hyperlink): Guillaume Paumier, CC-BY.
  • Printed publications: guillaumepaumier.com, CC-BY.

Contact me:

  • If you use this image outside of Wikimedia projects, I would be happy to hear from you.
  • If you use this image in a printed publication, I would love to get a copy for my archives.

Lisensi

Saya, pemilik hak cipta dari karya ini, dengan ini menerbitkan berkas ini di bawah ketentuan berikut:
w:id:Creative Commons
atribusi berbagi serupa
Berkas on ipartandoan sian on Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unported partadoan.
Anda diizinkan:
  • untuk berbagi – untuk menyalin, mendistribusikan dan memindahkan karya ini
  • untuk menggubah – untuk mengadaptasi karya ini
Berdasarkan ketentuan berikut:
  • atribusi – Anda harus mencantumkan atribusi yang sesuai, memberikan pranala ke lisensi, dan memberi tahu bila ada perubahan. Anda dapat melakukannya melalui cara yang Anda inginkan, namun tidak menyatakan bahwa pemberi lisensi mendukung Anda atau penggunaan Anda.
  • berbagi serupa – Apabila Anda menggubah, mengubah, atau membuat turunan dari materi ini, Anda harus menyebarluaskan kontribusi Anda di bawah lisensi yang sama seperti lisensi pada materi asli.
GNU head Diizinkan untuk menyalin, mendistribusikan dan/atau memodifikasi dokumen ini di bawah syarat-syarat Lisensi Dokumentasi Bebas GNU, Versi 1.2 atau lebih baru yang diterbitkan oleh Free Software Foundation; tanpa Bagian Invarian, tanpa Teks Sampul Depan, dan tanpa Teks Sampul Belakang. Salinan lisensi dimasukkan ke bagian yang berjudul Lisensi Dokumentasi Bebas GNU.
Anda dapat memilih lisensi pilihan Anda.

Captions

Add a one-line explanation of what this file represents

Items portrayed in this file

menggambarkan

sejak

Oktober 2007

koordinat sudut pandang

43°33'47.2"N, 1°28'39.4"E

Riwayat berkas

Klik pada tanggal/waktu untuk melihat berkas ini pada saat tersebut.

Tanggal/WaktuMiniaturDimensiPenggunaKomentar
terkini12 November 2007 09.27Miniatur versi sejak 12 November 2007 09.273.872 × 2.592 (3,48 MB)Guillom==Description== {{Information |Description={{en|etching tanks used to perform Piranha, en:Hydrofluoric acid or en:RCA clean on 6-inch wafer batches at fr:LAAS-CNRS technologica

Halaman berikut menggunakan berkas ini:

Penggunaan berkas global

Wiki lain berikut menggunakan berkas ini:

Metadata

Berkas ini mengandung informasi tambahan yang mungkin ditambahkan oleh kamera digital atau pemindai yang digunakan untuk membuat atau mendigitalisasi berkas. Jika berkas ini telah mengalami modifikasi, rincian yang ada mungkin tidak secara penuh merefleksikan informasi dari gambar yang sudah dimodifikasi ini.

Diperoleh dari "https://wiki-indonesia.club/wiki/Berkas:Wet_etching_tanks_at_LAAS_0465.jpg"